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Publication du programme PAUSE – ANR Ukraine pour l’accueil de scientifiques ukrainiens et ukrainiennes dans des laboratoires français
PSPV - Solaire Photovoltaïque

reCRIstallisation de couches minces de SILicium déposées sur ALliages métalliques – CRISILAL

Résumé de soumission

CRISILAL a pour objectif de maîtriser la recristallisation de films minces de silicium déposés sur des alliages métalliques et de sélectionner une couche barrière suffisamment efficace pour éviter la pollution du silicium par des impuretés provenant du substrat pendant la phase de recristallisation. Trois voies de recristallisation seront étudiées : le recuit rapide dans un four à lampes, le recuit en phase solide et la fusion de zone sur un équipement constitué d'une plaque chauffée par induction en partie inférieure et d'un dispositif de chauffage localisé et mobile par lampe en partie supérieure. Le but est de mieux comprendre les mécanismes de recristallisation en phase solide et en phase liquide et de mettre au point un procédé permettant d'atteindre des tailles de grains comprises entre 10 et 100µm sans contamination du silicium par des impuretés provenant du substrat. Le projet se conclura par une évaluation de la faisabilité technique et économique d'une technologie de cellule silicium sur alliage.

Coordinateur du projet

Sylvie SICOT (CEA)

L'auteur de ce résumé est le coordinateur du projet, qui est responsable du contenu de ce résumé. L'ANR décline par conséquent toute responsabilité quant à son contenu.

Partenaire

UNIVERSITE DE STRASBOURG
CEA

Aide de l'ANR 667 532 euros
Début et durée du projet scientifique : - 24 Mois

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