Logiciel d’optimisation robuste et rapide pour la scattérométrie d’objets 3D nanométriques. – LORS

Le projet LORS vise dans une optique de recherche industrielle exploratoire à développer de nouvelles techniques de simulation pour la reconstruction 3D d’objets à profils complexes sub-50 nm à partir de leur réponse à une excitation optique contrôlée. Les modules de simulation seront intégrés dans un outil métrologique dédié. L’outil de mesure très innovant est développé par la société ELDIM. Mêlant simulation et métrologie le projet répond aux thématiques PNANO MOD-SIM et INST. Actuellement les seules solutions satisfaisantes ont été proposées pour des objets bi-dimensionnels. Le passage aux objets tri-dimensionnels est délicat notamment à cause des temps de calcul et des erreurs de modélisation. L’objectif du projet est d’attaquer cette thématique très actuelle de la micro/nano-électronique par les trois aspects les plus problématiques de cette technique : - la réduction du temps de calcul des champs diffractés par les structures 3D nanométriques - la prise en compte des erreurs de simulation liées aux structures de modèles souvent trop simples qui biaisent les mesures - la réduction du temps de calcul lors de la recherche du meilleur modèle et sa fiabilisation par des procédures d’optimisation paramétrique globale. L’objectif final du projet est le développement d’un programme de modélisation unique traitant ces trois aspects de façon optimale et son intégration sur un matériel dédié au contrôle dimensionnel pour la micro/nano-électronique après validation.