Surfaces photoréactives et leur impact sur la croissance des polymères plasma – PHOTOPLASMA

La modification de surface offre la possibilité de changer physiquement ou chimiquement la surface d'un matériau afin de lui conférer une nouvelle propriété. Parmi les procédés de modification de surface, le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma de précurseurs polymérisables, communément appelé polymérisation plasma, présente plusieurs avantages par rapport à d'autres procédés. Il est réalisé en l'absence de solvant et de catalyseur, puisque les espèces réactives sont générées en phase vapeur et peuvent se recombiner sur pratiquement n'importe quelle surface. Il est bien connu que la nature chimique de la surface joue un rôle dans l’adhésion du polymère plasma sur le substrat. Cependant, il y a peu d'études et d'efforts consacrés à isoler les phénomènes impliqués dans la croissance des polymères plasma. C'est cette lacune que PHOTOPLASMA vise à combler. L'idée est d'évaluer l'influence de la présence de photoamorceurs, greffés à la surface du substrat, dans la formation des polymères plasmas. Il s'agit d'identifier comment la cinétique de croissance et les structures des polymères plasmas sont affectées par la présence d’un photoamorceur sur le substrat. Il sera particulièrement intéressant d'établir une corrélation entre la lumière émise par le plasma et son impact sur la formation de la couche mince, en particulier dans ses premiers stades de croissance. Il est attendu que les photoamorceurs activés pourront influencer l'attachement des espèces de la phase plasma à la surface, la cinétique de croissance du polymère et même les propriétés structurelles et physico-chimiques des films minces synthétisés. Le projet inclut donc aussi la compréhension des aspects fondamentaux du dépôt et de la croissance des polymères plasmas qui peuvent générer une structuration originale in situ de la surface par un procédé bottom-up.