Procédés plasma à bas coût pour l'industrie semi-conducteur – PISTOL

Le projet ANR Chaire Industrielle "PISTOL" est une collaboration entre TOTAL, un industriel français avec des intérêts économiques dans le photovoltaïque, et le LPICM (Laboratoire de Physique des Interfaces et Couches Minces), un laboratoire CNRS hébergé à l'Ecole Polytechnique, spécialisé dans l'utilisation des procédés plasmas pour les matériaux. Le porteur de la Chaire sera le Dr. Erik Johnson, chercheur CNRS au LPICM, directeur du groupe NanoSil, et inventeur de cinq brevets clefs qui couvrent les procédés explorés dans ce projet.

Le projet PISTOL cible l'application de l'expertise, le savoir-faire, et la propriété intellectuelle du LPICM (y compris les brevets en copropriété avec TOTAL) pour résoudre deux défis bien définis dans la technologie des semi-conducteurs, et ceci par l'utilisation des procédés plasmas. Les techniques utilisés constituent des ruptures technologiques– inventés au LPICM – et qui offrent soit (1) une réduction importante du cout associé par rapport à un procédé concurrent, ou (2) un procédé inaccessible par d'autres moyens.

Au-delà de ces ruptures technologiques, PISTOL répond aux besoins stratégiques des deux partenaires dans le court- et le long-terme. Dans le court terme, le projet PISTOL est construit pour inclure une tache sur l'exploitation (création de valeur). Le but de cette tâche est de quantifier régulièrement les avantages économiques potentiels associés aux procédés développés dans le projet, et puis de déterminer le meilleur plan d'action pour transformer les résultats du projet en une valeur économique. Des exemples de plans d'action sont l'exploitation directe (par TOTAL ou ses affiliés), l'attribution de licences a un troisième partenaire, l'intégration d'un troisième partenaire (e.g. avec un équipementier dans un projet joint de développement), ou le partage avec un autre partenaire académique.

Avec une vision sur les buts à long-terme, le projet PISTOL se dédie fortement dans la formation par la recherche, à tous les niveaux: des cours de M2 donnés par les experts industriels, via les stages de M2, et puis via les doctorants et les chercheurs postdoctoraux.

Le LPICM est parfaitement positionné pour porter ce projet – grâce à son expertise et IP dans le domaine, mais aussi par sa capacité à développer de tels procédés, d'un concept de réacteur, jusqu'au dispositif. La longue expérience du laboratoire dans l'investigation de la science des procédés plasmas (le rôle des particules formées dans le plasma, l'utilisation de chimies nouvelles, l'exploration des techniques d'excitation non-traditionnelles) pour une grande variété d'applications (écrans plats, photovoltaïque, optoélectronique,…) est clairement le pilier du projet.

En plus de ces raisons techniques, du point de vue de TOTAL, le LPICM est le partenaire idéal pour ce projet, pour trois facteurs: (1) un lien bien établi de confiance sur les sujets de confidentialité dans le cadre du travail conjoint, ce qui facilite les discussions plus ouvertes, (2) une vision partagé sur la création de valeur, et (3) une capacité démontrée à fonctionner avec une excellente boucle de rétroaction avec le partenaire industriel.