DS0303 - Matériaux et procédés

Substrats de diamant conducteur pour des applications industrielles en électronique de puissance – DIAMWAFEL

Résumé de soumission

Le projet DIAMWAFEL a pour objectif majeur de développer un wafer de diamant hétéroépitaxié de qualité électronique à partir d’une multicouche originale de Ir/SrTiO3/Si (001). Des films de diamant de dopage contrôlé (de type p et n) seront réalisés sur des templates hétéroépitaxiés en utilisant du bore et du phosphore, respectivement. Ce projet fournira toutes les briques technologiques nécessaires à la fabrication de composants en diamant de type diodes Schottky (planaire ou verticale). Les propriétés électroniques des diodes Schottky seront évaluées. Des wafers de diamant hétéroépitaxiés d’un pouce seront réalisés pendant le projet.

Dans le contexte international, la France possède de sérieux atouts pour initier une filière industrielle produisant des wafers de diamant hétéroépitaxiés. Le consortium de DIAMWAFEL combine les différentes expertises requises : les substrats de SrTiO3 /Si (001) (INL), le diamant hétéroepitaxié sur iridium (CEA LIST), la croissance de films de diamant dopés au bore (NEEL, LSPM), au phosphore (GEMaC) et la technologie des composants et leurs caractérisations électriques (NEEL). La principale perspective du projet DIAMWAFEL est l’exploitation industrielle. Plusieurs entreprises françaises ont déjà manifesté leur intérêt.

Coordinateur du projet

Monsieur Jean-Charles Arnault (Commissariat à l'Energie Atomiique et aux énergies alternatives)

L'auteur de ce résumé est le coordinateur du projet, qui est responsable du contenu de ce résumé. L'ANR décline par conséquent toute responsabilité quant à son contenu.

Partenaire

LSPM (CNRS DR PV) Laboratoire des Sciences des Procédés et des Matériaux
GEMAC Groupe d'étude de la Matière Condensée
GEMAC Groupe d'étude de la Matière Condensée
LSPM Laboratoire des Sciences des Procédés et des Matériaux
CEA LIST Commissariat à l'Energie Atomiique et aux énergies alternatives
INL - CNRS Institut des Nanotechnologies de Lyon
IN NEEL Institut Néel

Aide de l'ANR 493 789 euros
Début et durée du projet scientifique : mars 2016 - 42 Mois

Liens utiles

Inscrivez-vous à notre newsletter
pour recevoir nos actualités
S'inscrire à notre newsletter