Nouvelle génération de plasmas très haute densité à conditions opératoires étendues : chambre de gravure prototype – APANAGE

Le projet APANAGE a pour objectif de valoriser des résultats récents de la recherche fondamentale obtenus dans le cadre du projet ANR blanc PLASMODIE (2006-2009) qui portait sur le développement de nouvelles sources plasma. Les performances obtenues en termes de densité plasma, d’étendue des conditions opératoires (pression, fréquence micro-onde, puissance micro-onde), et de possibilité d’extension d’échelle procurent à ces sources des avantages concurrentiels déterminants par rapport aux sources conventionnelles existantes (décharges capacitives, plasmas inductifs) pour les traitements de surface (e.g. gravure). Toutefois, si les concepts à la base de cette nouvelle génération de sources plasma ont pu être complètement validés dans le cadre du projet PLASMODIE, des études complémentaires portant sur des développements technologiques sont indispensables pour aboutir à des produits et des procédés commercialisables.

Pour parvenir à cet objectif de valorisation, le projet APANAGE propose donc de développer l’ensemble des solutions industrielles permettant d’aboutir à la réalisation d’une chambre de gravure plasma pouvant être installée, en substitution des chambres plasma existantes, sur les bâtis de gravure des laboratoires (recherche et R&D) et des équipementiers, mineurs ou majeurs, de la microélectronique et des micro-nanotechnologies. Ce projet devrait pouvoir conduire au dépôt de nouveaux brevets (consolidation de la propriété intellectuelle), à des concessions de licences aux équipementiers intéressés, au renforcement de la start up Boreal Plasma créée en 2005, et à la mise en place de partenariats industriels renforcés ou nouveaux.

Le projet APANAGE doit donc permettre de réaliser des percées technologiques importantes en termes de solutions industrielles et donc de proposer des produits compétitifs à plusieurs niveaux : 1) technologie plasma d’avant-garde offrant des performances supérieures aux technologies actuelles en termes de densité, d’extension d’échelle, de flexibilité ; 2) sources plasma élémentaires standardisées (pour toute configuration de chambres) ; 3) chambres plasma pour montage sur bases existantes ; 4) procédé de gravure profonde des polymères.

Les résultats attendus concernent, d’une part, la réalisation d’une chambre plasma très haute densité (2 ? 1012 à 4 ? 1012 cm-3) à partir de sources élémentaires optimisées, et, d’autre part, la mise au point d’un procédé de gravure profonde permettant d’exploiter ces performances pour des applications en microélectronique et nanotechnologies. Ces résultats permettront de conquérir des parts de marché dans le secteur des équipements plasma pour la microélectronique et les nanotechnologies.