Développement d'un outil de métrologie optique (scattérométrie) pour les semiconducteurs utilisant la polarimétrie de Mueller – ScatteroMueller

L’objectif du projet est la mise au point par un industriel renommé (Horiba Jobin Yvon) d’un nouvel appareil dédié à la métrologie optique par polarimétrie de Mueller des structures périodiques (réseaux) présentes sur les galettes de silicium au cours de la fabrication de composants en microélectronique. Les propriétés optiques des matériaux et/ou la forme des traits des réseaux sont déterminées par ajustement aux mesures de modèles multiparamètres. Ce projet sera mené en collaboration avec deux laboratories publics (CEA-LETI LPICM) ). Par rapport aux techniques utiisées actuellement (ellipsométrie et réflectométrie) la polarimétrie de Mueller est plus complexe à mettre en œuvre mais elle augmente le nombre de données expérimentales et permet de mieux décorréler les paramètres recherchés ce qui améliore la précision absolue du résultat final. L’origine de certaines corrélations n’est pas bien comprise et constitue un problème “amont” intéressant en lui-même et pour les développements logiciels prévus dans le projet. Cet appareil doit permettre des gains sensibles en productivité surtout à l’étape de la mise au point du process en réduisant le nombre de contrôles destructifs nécessaires.