Applications des faisceaux d'électrons à 1 GeV produits dans le nouveau concept d&aposaccélérateur laser plasma. – ACCEL1

Ce faisceau d'électrons sera mis à disposition de pour :La génération d'une source sub-millimétrique de rayonnement gama très dur et de forte dose pour la radiographie g non destructive de la matière dense d'intérêt avoué pour la science des matériaux (aéronautique, moteurs de voiture etc...). Cette source est obtenue lors de l'interaction du faisceau d'électrons avec un convertisseur g. Pour la production de rayonnement X très bref et à spectre large pour l'EXAFS, la spectroscopie X par absorption dans le domaine femtoseconde. Cette source de rayonnement X est obtenue par oscillation des électrons dans un canal plasma préformé.Pour tester les nouveaux détecteurs d'électrons qui sont développés pour la physique des hautes énergies. La demande de banc de test à cet effet est très forte de la part des physiciens des accélérateurs.La méthode consiste à produire des champs électriques extrêmes, de l'ordre du TV/m, dans un jet de gaz. Ces champs étant plus de 10000 fois plus grands que ceux produits dans un accélérateur conventionnel, les accélérateurs laser-plasma sont beaucoup plus compacts et donc moins onéreux. La structure des champs accélérateurs dépend fortement de la forme spatio-temporelle de l'impulsion laser et des caractéristiques du jet de gaz. Ce projet devra permettre de valider des nouveaux schémas d'accélérateurs compacts par l'approche laser-plasma et de préparer les nouvelles sources X compactes du futur (de type XFEL).