Dépôt de couches atomiques pour les membranes séparatives d’hydrogène – ALD4MEM

L’hydrogène devrait devenir l’un des principaux vecteurs d’énergie au cours des prochaines décennies. Ce projet propose le développement de nouvelles membranes à films minces permettant une purification efficace de l’hydrogène sur une large gamme de températures. La stratégie est basée sur le dépôt de films minces de trois nanomatériaux - MOFs, palladium et zirconate de baryum - en vue de leur future utilisation industrielle à des températures faibles, moyennes et élevées, respectivement. Ces nanomatériaux seront uniformément déposés sur des substrats tubulaires en céramique poreuse en utilisant de nouveaux procédés de dépôts de couches atomiques (ALD et SALD), applicables à l’échelle industrielle. Le projet devrait aboutir à de nombreux résultats scientifiques en termes de publications et de brevets, et le dépôt en couches minces des trois nanomatériaux de manière uniforme sur des substrats tubulaires représentera une innovation de rupture, répondant à un besoin industriel pressant.